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第292章 nm光刻机突破近在咫尺（第1页）

中微公司的工程大楼内，正在进行关键的技术评审会。来自全国各地的半导体专家齐聚一堂，对28nm光刻机工程样机的核心部件进行评估。

“光学系统的测试数据令人瞩目。”威廉姆斯博士指着屏幕屏幕说道，“分辨率稳定控制在28nm，偏移精度达到±3nm，这些指标都达到了设计要求。但在系统稳定性方面还有提升空间。”

“具体是哪些问题？”李一凡问道。他特意来参加这次评审会，因为这关系到整个项目的推进。

“主要在两个方面。”威廉姆斯说，“一是光强均匀性还不够理想，在大视场范围内有微小波动；二是对环境温度的敏感度偏高，需要更精密的控制系统。”

中微公司董事长尹志绕插话道：“这些问题在工程阶段是可以的。我们已经和南大光电的团队讨论过，准备通过调整光刻胶的参数来补偿这些偏差解决。”

“没错。”王立新说，“我们最新研发的光刻胶具有增强的工艺耐受度，可以在一定程度上弥补光学系统的不足。这就是良好创新的优势。”

这时，一位来自中科院的专家提出疑问：“光刻胶的工艺窗有多大？在量产环境下能否保持稳定？”

“这就是我们最近的突破点。”王立新调出一组实验数据，“通过优化配方，将工艺窗口扩大了30%。在标准环境下，曝光剂量和曝光时间都出现了更大的调节空间。这对提升良率很关键。”

李一凡注意到专家们对这一进展非常感兴趣。他知道，工艺窗口的大小与量产的吸力有直接关系。

“系统集成方面的进展如何？”中科院的专家继续提问。

“已经完成了六个核心模块的组合。”威廉姆斯说道，“现在最关键的是光学系统和机械系统的配合。为此我们专门开发了一套新的控制算法，可以实时补偿机械振动带来的影响。”

技术总监詹姆斯补充道：“这套算法的创新点引入了人工智能技术。通过机器学习，系统能够自动识别和修改各种托盘刻源。这在全球的光机领域都是首创。”

“标准化确实是个好办法。”专家组组长点头说，“但要注意信息安全。系统的自主可控性必须有保证。”

“这方面我们考虑周全。”威廉姆斯说，“所有的核心算法都是自主开发，关键模块全部采用国产芯片。特别是在安全防护方面，我们采用了物理隔离的方案。”

就在评审会进行时，南大光电传来好消息：新一代光刻胶在中试生产中取得重要突破，各项指标均达到预期，良品率超过90%。

“这个突破来得时候。”尹志绕说，“意味着在材料和设备方面我们都具备了产业化的基础。”

“我建议成立一个联合工作组。”专家组组长说，“由中微和南大光电的核心团队组成，专门解决工程机阶段的配合问题。这样可以进一步发挥良好效果。”

“这个建议很好。”李一凡说，“省里给了我们500亿的支持，就是要推动这种深度合作。两个团队要真正实现技术共享、资源互补。”

“我们已经准备好了。”威廉姆斯说，“计划从两边各抽调15名骨干工程师，组成联合攻关小组。重点解决三个问题：光学系统的稳定性、工艺参数的匹配度、以及量环境产下的良率控制。”

“人员已经选好了。”王立新补充道，“我们选了几位在日本工作的工程师，他们在工艺整合方面经验丰富。同时还补充了试线抽调了生产骨干，确保实验室成果能够顺利转化。”